钨是稀有金属,也是重要的战略物资。我国是产钨大国,钨资源储量520万吨,占世界总储量的65%,产量及出口量均居全球前列。湖南、江西、河南三省的钨资源储量居全国的前三位,其中湖南、江西两省的钨资源储量占全国的55.48%。湖南以白钨为主,江西以黑钨为主,其黑钨资源占全国黑钨资源总量的 42.40%。钨是稀有高熔点金属,属于元素周期表中第六周期(第二长周期)的VIB族。钨是一种银白色金属,外形似钢。钨的熔点高,蒸气压很低,蒸发速度也较小。
元素符号: W
原子序数: 74
熔点: 3410±20℃
沸点: 5927℃
纯度:钨99.95%以上
密度:19.35g/cm3
表面状态:磨光或碱洗
靶材用途:一、 平板显示种类:1,液晶显示器件 2,等离子体显示器件3,薄膜晶体管液晶平板显示器。
平板显示镀膜用靶材主要品种有:铬靶,钼靶,铝靶,铝合金靶,铜靶,铜合金靶,掺锡氧化铟靶等。
二、 装饰镀膜:指手机,手表,眼镜,卫生洁具,五金零件等。(装饰镀膜用靶材主要有:铬靶,钛靶,锆靶,镍靶,钨靶,钛铝合金靶,不锈钢靶等。)
三、 工模具镀膜:应用靶材主要品种有:钛铝靶,铬铝靶,铬靶,钛靶等。
四、 玻璃镀膜(主要指低辐射镀膜玻璃又称等能玻璃。)玻璃镀膜用靶材品种主要有:银靶,铬靶,钛靶,镍铬合金靶,锌锡合金靶,硅铝靶,氧化钛靶等。
五、 电子器件镀膜,主要用于薄膜电阻和薄膜电容。(薄膜电阻用靶材有:镍铬靶,镍铬硅靶,铬硅靶,钽靶,镍铬铝靶等)
六、 磁记忆镀膜:主要针对磁盘,磁头,磁鼓,磁带等。(磁记忆溅射镀膜记录用靶材有:铬基,钴基,钴铁基,镍基等。)
七、 半导体镀膜:溅射靶材是制备集成电路的核心材料之一。(所用靶材主要有:钨靶,钨钛靶,钛靶,钽靶,铝靶,铜靶等。但要求靶材纯度高,一般在4N或5N以上。)
八、 太阳能电池镀膜:所用靶材主要有:氧化锌铝靶(AZO),氧化锌ZnO靶,锌铝靶,钼靶,硫化镉CdS靶等。
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